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光催化氧化设备的技术特征

更新时间:2022-06-21 14:57    浏览:
  光催化氧化设备的技术***征 
  光催化氧化设备是一项成熟的工艺,工艺有用性的关键在于紫外线的强度和催化剂的催化能力以及催化时间。光催化应用技术工艺简略、成本低廉,利用自然光即可催化分解细菌和污染物,具有高催化活性、杰出的化学稳定性和热稳定性、无二次污染、无刺激性、安全无毒等***征,且能长期有益于生态自然环境,是具有开发远景的绿色环保催化技术之一。
  光催化氧化设备在技术上主要有以下***征:
  (1)低温深度反响:光催化氧化可在常温将空气、水和土壤中有机污染物完全氧化成无毒无害的物质。而传统的高温燃烧技术则需要在极高的温度下才可将污染物摧毁,即使用常规的催化氧化方法也需要几百度的高温。
  (2)净化完全:它直接将空气中的有机污染物,完全氧化成无毒无害的物质,不留任何无二次污染,现在广泛采用活性炭吸附法不分解污染物,仅仅将污染源搬运。
  (3)绿色动力:光催化可利用太阳光作为动力来活化光催化剂,驱动氧化恢复反响,而且光催化剂在反响过程中并不消耗。从动力视点而言,这一***征使光催化技术更具魅力。
  (4)氧化性强:很多研究标明,半导体光催化具有氧化性强的***征,对臭氧难以氧化的某些有机物如三氯甲烷、四氯化碳、六氯苯都能有用地加以分解,所以难以降解的有机物具有***别含义。
  (5)广谱性:光催化对从烃到羧酸的种类很多有机物有用,对原子有机物如卤代烃、染料、含氮有机物、有机磷杀虫剂也有极佳的去除作用,一般通过持续反响可到达完全净化。
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